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Lucía Romero y Cindy Zheng ganaron el concurso realizado por la marca Epson y asistirán al New York Fashion Week. Lidia Monge (centro), Gerente de la Marca, les entrego su reconocimiento. Foto:Cristina Fatjo

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Por: Enrique Rivas Leyva

Dos estudiantes de la universidad Véritas se ganaron el pase de participar, con sus diseños, en el Fashion Week 2015 a realizarse en Nueva York. El evento será a partir del próximo 12 de febrero hasta el 19 de ese mismo mes. Lucia Romero y Cindy Zheng participaron en el “Digital Couture Project Epson” que se realizó a nivel latinoamericano, y ganaron. Ellas representarán a Costa Rica en una actividad donde se contarán con otros 11 diseñadores de países de América Latina.

Romero y Zheng son estudiantes del Programa Internacional de Modas, desarrollado por esa universidad, e iniciaron su proceso hace más de 6 meses cuando la marca Epson lanzó el concurso para retar a diseñadores de la región. Ellos debían utilizar la técnica de la sublimación, y con esto crear toda una colección.

La colección “Tlamacazqui”, basada en la estética y gráfica del arte precolombino, busca el rescate de estos signos como primer medio de comunicación de nuestros antepasados. Incorpora también la paleta cromática de los colores de Costa Rica, naranjas y rojos presentes en los atardeceres de nuestras costas, en contraste con los tonos verdes de nuestra flora y fauna.

“Estamos muy contentos de poder ayudar a los diseñadores de moda a presentar sus visiones creativas en telas de una manera innovadora y versátil con las avanzadas tecnologías digitales durante la Semana de la Moda de Nueva York”, comentó Agustín Chacón, vicepresidente de ventas y operaciones subsidiarias de Epson América.

Ahora, Romero y Zheng se encuentran en la fase final de la preparación de los seis outfits que llevarán a New York.

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Este fue el diseño con el cual las participantes lograron pasar a uno de los eventos más importantes del año en el mundo de la moda, el New York Fashion Week New York 2015.

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